Rechtsprechung / BPatG / 18. Senat / 2025
BPatG Beschluss vom 29.04.2025 – 18 W (pat) 21/23
18. Senat · ECLI:DE:BPatG:2025:290425B18Wpat21.23.0
Gewerblicher RechtsschutzBundVolltext
BUNDESPATENTGERICHT
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(Aktenzeichen)
B E S C H L U S S
In der Beschwerdesache …
betreffend die Patentanmeldung 10 2012 111 788.8
hat der 18. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf die mündliche Verhandlung vom 29. April 2025 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters Dr. Morawek und der Richter Dr. Friedrich, Dr. Zebisch und Dr. Nielsen
ECLI:DE:BPatG:2025:290425B18Wpat21.23.0
beschlossen:
1. Der Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse H01L des Deutschen Patent- und Markenamts vom 24. November 2022 wird aufgehoben.
2. Das Patent mit der Bezeichnung „Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und Verfahren für ihre Herstellung“ ist auf Grundlage folgender Unterlagen zu erteilen:
− Ansprüche 1 bis 14 gemäß Hauptantrag vom 29. April 2025, übergeben in der mündlichen Verhandlung. − Beschreibung: Seiten 1 bis 8 und 8a vom 4. März 2019 sowie Seiten 9 bis 13 und 15 bis 19 vom 16. Januar 2013 sowie Seite 14 und Seite 20 vom 29. April 2025. − Zeichnungen: Seiten 1 bis 8 mit den Figuren 1, 2A bis 2O, 3 und 4 vom 12. März 2013.
G r ü n d e
I. Die vorliegende Anmeldung mit der Bezeichnung „Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und Verfahren für ihre Herstellung“ wurde unter Inanspruchnahme der Priorität US 13/314438 vom 8. Dezember 2011 beim Deutschen Patent- und Markenamt am 5. Dezember 2012 in englischer Sprache eingereicht. Gleichzeitig wurde Prüfungsantrag gestellt. Mit Schriftsatz vom 16. Januar 2013 wurde eine Übersetzung der Anmeldungsunterlagen eingereicht. Die Prüfungsstelle für Klasse H01L hat im Prüfungsverfahren auf den Stand der Technik gemäß den Druckschriften D1 DE 10 2009 040 557 A1 D2 DE 10 2005 007 373 A1 D3 DE 10 2006 037 118 B3 D4 US 6 946 740 B2 D5 DE 10 2008 034 164 A1 D6 US 2005 / 0 224 945 A1 verwiesen und die Anmeldung in der am 24. November 2022 durchgeführten Anhörung mit der Begründung zurückgewiesen, dass die Vorrichtung nach Patentanspruch 1 gegenüber Druckschrift D4 nicht neu sei.
Gegen diesen der Anmelderin am 5. Dezember 2022 zugestellten Beschluss richtet sich die am 14. Dezember 2022 beim Deutschen Patent- und Markenamt eingegangene Beschwerde der Anmelderin. Sie beantragt zuletzt in der mündlichen Verhandlung am 29. April 2025, den Beschluss der Prüfungsstelle für Klasse H01L des Deutschen Patent- und Markenamts vom 24. November 2022 aufzuheben und das Patent mit der Bezeichnung „Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und Verfahren für ihre Herstellung“ zu erteilen auf Grundlage folgender Unterlagen:
− Ansprüche 1 bis 14 gemäß Hauptantrag vom 29. April 2025, übergeben in der mündlichen Verhandlung. − Beschreibung: Seiten 1 bis 8 und 8a vom 4. März 2019 sowie Seiten 9 bis 13 und 15 bis 19 vom 16. Januar 2013 sowie Seite 14 und Seite 20 vom 29. April 2025. − Zeichnungen: Seiten 1 bis 8 mit den Figuren 1, 2A bis 2O, 3 und 4 vom 12. März 2013. Die zueinander nebengeordneten Ansprüche 1 und 10 des in der mündlichen Verhandlung überreichten Anspruchssatzes haben mit hinzugefügter Gliederung folgenden Wortlaut, wobei Änderungen zum jeweils korrespondierenden ursprünglichen Anspruch 1 bzw. 15 unterstrichen bzw. durchgestrichen sind:
Anspruch 1:
M1.1 Vorrichtung, umfassend:
M1.2 einen ersten Leistungshalbleiterchip (10) mit einer ersten Fläche (11) und einer zweiten Fläche (12) gegenüberliegend zur ersten Fläche, M1.3 wobei eine erste Kontaktstelle (13) und eine zweite Kontaktstelle (14) auf der ersten Fläche angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (15) auf der zweiten Fläche angeordnet ist; und M1.4 einen zweiten Leistungshalbleiterchip (20) mit einer ersten Fläche (21) und einer zweiten Fläche (22) gegenüberliegend zur ersten Fläche, M1.5 wobei eine erste Kontaktstelle (23) und eine zweite Kontaktstelle (24) auf der ersten Fläche angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (25) auf der zweiten Fläche angeordnet ist; M1.6 wobei der erste und der zweite Leistungshalbleiterchip in einer gemeinsamen Laminierungsschicht (42) gekapselt und M1.7 derart angeordnet sind, dass die erste Fläche (11) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) in eine erste Richtung gewandt ist und die erste Fläche (21) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) in eine zweite Richtung entgegengesetzt zur ersten Richtung gewandt ist, wobei die gemeinsame Laminierungsschicht (42) ein Prepreg enthält, und M1.8 wobei der erste Leistungshalbleiterchip (10) seitlich zumindest teilweise vollständig außerhalb eines Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) angeordnet ist, M1.9 wobei die Vorrichtung ferner eine erste Metallschicht (34, 50) umfasst, die an der zweiten Fläche (12) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) und an einer Oberfläche der gemeinsamen Laminierungsschicht (42) befestigt ist und M1.10 eine zweite Metallschicht (35, 51) umfasst, die an der zweiten Fläche des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) befestigt ist, M1.11 wobei die erste Metallschicht (34, 50) und die zweite Metallschicht (35, 51) auf gegenüberliegenden Flächen der gemeinsamen Laminierungsschicht (42) angeordnet sind.
Anspruch 10:
M10.1 Verfahren, umfassend:
M10.2 Bereitstellen eines ersten Leistungshalbleiterchips (10), der eine erste Fläche (11) und eine zweite Fläche (12) gegenüberliegend zur ersten Fläche aufweist, M10.3 wobei eine erste Kontaktstelle und eine zweite Kontaktstelle auf der ersten Fläche (11) angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle auf der zweiten Fläche (12) angeordnet ist; M10.4 Befestigen einer ersten Metallschicht (34) an der zweiten Fläche (12) des ersten Leistungshalbleiterchips (10); M10.5 Bereitstellen eines zweiten Leistungshalbleiterchips (20), der eine erste Fläche (21) und eine zweite Fläche (22) gegenüberliegend zur ersten Fläche aufweist, M10.6 wobei eine erste Kontaktstelle und eine zweite Kontaktstelle auf der ersten Fläche (21) angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle auf der zweiten Fläche (22) angeordnet ist; M10.7 Befestigen einer zweiten Metallschicht (35) an der zweiten Fläche (22) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20); M10.8 Befestigen einer ersten Laminierungsfolie (40) an der ersten Metallschicht (34); und M10.9 Befestigen einer zweiten Laminierungsfolie (41) an der zweiten Metallschicht (35); und M10.10 Anordnen des ersten und des zweiten Leistungshalbleiterchips derart, dass die erste Fläche (11) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) in eine erste Richtung gewandt ist und die erste Fläche (21) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) in eine zweite Richtung entgegengesetzt zur ersten Richtung gewandt ist, und M10.11 der erste Leistungshalbleiterchip (10) seitlich zumindest teilweise vollständig außerhalb des Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) angeordnet ist; M10.12 Laminieren der ersten Laminierungsfolie (40) an die zweite Laminierungsfolie (41), um eine gemeinsame Laminierungsschicht (42) zu erzeugen.
Hinsichtlich der abhängigen Ansprüche 2 bis 9 und 11 bis 14 sowie der weiteren Unterlagen und Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.
II. Die form- und fristgerecht erhobene Beschwerde der Anmelderin ist zulässig und erweist sich nach dem Ergebnis der mündlichen Verhandlung auch als begründet. Sie führt zur Aufhebung des Beschlusses und zur Erteilung des Patents gemäß dem in der mündlichen Verhandlung gestellten Antrag (§ 79 Abs. 1 PatG i. V. m. § 49 Abs. 1 PatG), denn die geltenden Patentansprüche sind zulässig (§ 38 PatG), und ihre gewerblich anwendbare Lehre (§ 5 PatG) ist auch patentfähig (§§ 1 bis 4 PatG).
1. Die Anmeldung betrifft eine Vorrichtung mit zwei Leistungshalbleiterchips und ein Verfahren für ihre Herstellung. Leistungshalbleiterchips sind für hohe Leistungspegel ausgelegte Halbleiterbausteine wie Leistungs-MOSFETs, IGBTs (Isolated Gate Bipolar Transistor), JFETs (Junction FETs) und Leistungsbipolartransistoren. Sie sind insbesondere für das Schalten und die Steuerung hoher Ströme und Spannungen geeignet und können für spezifische Anwendungen wie z.B. Halbbrückenschaltungen aufeinandergestapelt werden. Problematisch ist dabei jedoch die Wärmeabfuhr, vgl. die geltenden Beschreibungsseiten 1 bis 6. Vor diesem Hintergrund liegt der Anmeldung als objektives technisches Problem die Aufgabe zugrunde, eine gut herstellbare Vorrichtung mit gestapelten Leistungshalbleiterchips bereitzustellen, die eine gute Wärmeübertragung und Montierbarkeit aufweist sowie ein zugehöriges Herstellungsverfahren zur Verfügung zu stellen, vgl. die geltende Beschreibungsseite 18, dritter Absatz.
Gelöst wird diese Aufgabe durch die Vorrichtung des Patentanspruchs 1 und das Verfahren des nebengeordneten Patentanspruchs 10. Als Fachmann ist hier ein Physiker oder Ingenieur der Fachrichtung Elektrotechnik mit Hochschulabschluss und mehrjähriger Berufserfahrung im Bereich der Entwicklung von Halbleiterleistungselektronik zu definieren.
2. Das Verfahren des Anspruchs 10 wird anhand der Figuren 2A bis 2O beschrieben, die nachfolgend auszugsweise wiedergegeben sind. Entsprechend den Merkmalen M10.2, M10.3, M10.5 und M10.6 werden ein erster und zweiter Leistungshalbleiterchip (10, 20) bereitgestellt, die jeweils eine erste Fläche (11, 21) und eine zweite Fläche (12, 22) gegenüberliegend zur ersten Fläche aufweisen, wobei jeweils eine erste Kontaktstelle (13, 23) und eine zweite Kontaktstelle (14, 24) auf der ersten Fläche (11, 21) angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (15, 25) auf der zweiten Fläche (12, 22) angeordnet ist; Zusätzlich werden gemäß den Merkmalen M10.4 und M10.7 eine erste Metallschicht (34) an der zweiten Fläche (12) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) und eine zweite Metallschicht (35) an der zweiten Fläche (22) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) befestigt. Wie dieses Befestigen erfolgt, ist nicht beansprucht. Jedoch ist es in den Figuren 2B bis 2D dahingehend beschrieben, dass der erste bzw. zweite Chip (10, 20) über die jeweiligen ersten und zweiten Kontaktstellen an einer ersten bzw. zweiten Klebeträgerfolie (30, 31) befestigt und dann mit der gegenüberliegenden Seite, auf der sich die dritte Kontaktstelle (15, 25) befindet, mit der ersten bzw. zweiten Metallschicht (34, 35), die auf einem jeweiligen Träger (32, 33) angeordnet ist, verbunden werden, bspw. durch Diffusionslöten. Anschließend werden die Folien (30, 31) entfernt, vgl. Fig. 2D.
Wie in Fig. 2F gezeigt ist, werden entsprechend den Merkmalen M10.8 bis M10.11 eine erste Laminierungsfolie (40) an der ersten Metallschicht (34) und eine zweite Laminierungsfolie (41) an der zweiten Metallschicht (35) befestigt und der erste und zweite Leistungshalbleiterchip derart angeordnet, dass die erste Fläche (11) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) in eine erste Richtung gewandt ist, die erste Fläche (21) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) in eine zweite Richtung entgegengesetzt zur ersten Richtung gewandt ist und der erste Leistungshalbleiterchip (10) seitlich vollständig außerhalb des Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) angeordnet ist.
Gemäß Merkmal M10.12 wird die erste Laminierungsfolie (40) an die zweite Laminierungsfolie (41) laminiert, um eine gemeinsame Laminierungsschicht (42) zu erzeugen, was in Fig. 2G bzw. 2H nach dem Entfernen der Träger (32, 33) gezeigt ist. Die der Beschreibung zu entnehmende Abfolge der Verfahrensschritte ist jedoch nicht zwingend, da Anspruch 10 hinsichtlich der Reihenfolge der Schritte nicht beschränkt ist.
Mit der Vorrichtung nach Anspruch 1 wird ein Gegenstand entsprechend Fig. 2H beansprucht, d. h. eine Vorrichtung mit einem ersten und einem zweiten Leistungshalbleiterchip (10, 20) mit jeweils einer ersten Fläche (11, 21) und einer zweiten Fläche (12, 22) gegenüberliegend zur ersten Fläche (11, 21), wobei eine erste Kontaktstelle (13, 23) und eine zweite Kontaktstelle (14, 24) auf der ersten Fläche angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (15, 25) auf der zweiten Fläche angeordnet ist (Merkmale M1.2 bis M1.5). Der erste und der zweite Leistungshalbleiterchip sind in einer gemeinsamen Laminierungsschicht (42) gekapselt (M1.6) und derart angeordnet, dass die erste Fläche (11) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) in eine erste Richtung gewandt ist und die erste Fläche (21) des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) in eine zweite Richtung entgegengesetzt zur ersten Richtung gewandt ist, wobei die gemeinsame Laminierungsschicht (42) ein Prepreg enthält und der erste Leistungshalbleiterchip (10) seitlich vollständig außerhalb eines Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) angeordnet ist (M1.7 und M1.8). Zudem umfasst die Vorrichtung eine erste Metallschicht (34), die an der zweiten Fläche (12) des ersten Leistungshalbleiterchips (10) und an einer Oberfläche der gemeinsamen Laminierungsschicht (42) befestigt ist und eine zweite Metallschicht (35), die an der zweiten Fläche des zweiten Leistungshalbleiterchips (20) befestigt ist, wobei die erste Metallschicht (34) und die zweite Metallschicht (35) auf gegenüberliegenden Flächen der gemeinsamen Laminierungsschicht (42) angeordnet sind (M1.9 bis M1.11).
Gemäß den Beschreibungsseiten 12 und 13 erfolgt das Befestigen der ersten (34) bzw. zweiten Metallschicht (35) bspw. durch Diffusionslöten oder durch einen elektrisch leitfähigen Klebstoff, und nach Beschreibungsseite 14 ist unter dem in Merkmal M1.7 des Patentanspruchs 1 genannten Prepreg ein Polymermaterial zu verstehen, das eine Kombination einer Fasermatte und eines Harzes ist.
3. Der in der Verhandlung überreichte Anspruchssatz ist zulässig (§ 38 PatG), da die beanspruchten Gegenstände in den ursprünglichen Unterlagen offenbart sind. Der geänderte Anspruch 1 ergibt sich aus dem ursprünglichen Anspruch 1 (M1.1 bis M1.8) durch Aufnahme der Merkmale der ursprünglichen abhängigen Ansprüche 2 bis 4 (M1.8 bis M1.10), wobei die zusätzlichen Präzisierungen in den Merkmalen M1.6, M1.7, M1.8 und M1.11 in Fig. 2G und auf Seite 14, zweiter Absatz und Seite 15, erster Absatz der Übersetzung der ursprünglichen Beschreibung offenbart sind.
Der nebengeordnete geänderte Verfahrensanspruch 10 ergibt sich aus dem ursprünglichen Anspruch 15 (M10.1 bis M10.3, M10.5, M10.6, M10.10, M10.11) durch Aufnahme der Merkmale der ursprünglichen abhängigen Ansprüche 16 bis 19 (M10.4, M10.7 bis M10.9, M10.12), wobei die zusätzliche Präzisierung in Merkmal M10.11 in Fig. 2G und auf Seite 15, erster Absatz der Übersetzung der ursprünglichen Beschreibung offenbart ist.
Die abhängigen Ansprüche 2 bis 9 und 11 bis 14 sind die angepassten ursprünglichen Ansprüche 5 bis 12 und 20 bis 23. 4. Die Lehren der Ansprüche sind für den Fachmann ausführbar (§ 34 Abs. 4 PatG), da die Ansprüche zusammen mit der Beschreibung und den Figuren die beanspruchten Gegenstände hinreichend deutlich und vollständig offenbaren, so dass der Fachmann sie nacharbeiten kann.
5. Die gewerblich anwendbare (§ 5 PatG) Vorrichtung des Anspruchs 1 und das zugehörige Verfahren des nebengeordneten Anspruchs 10 sind gegenüber dem ermittelten Stand der Technik neu (§ 3 PatG) und beruhen diesem gegenüber auf einer erfinderischen Tätigkeit (§ 4 PatG) des Fachmanns, so dass sie gegenüber diesem Stand der Technik patentfähig sind (§ 1 Abs. 1 PatG).
Druckschrift D4 beschreibt in den Figuren 3, 5 und 9 mit zugehöriger Beschreibung in Spalte 2, Zeile 62 bis Spalte 4, Zeile 14 und Spalte 5, Zeilen 18 bis 21 das Prinzip einer Halbbrückenschaltung mit zwei in Serie geschalteten Leistungs-MOSFETs (30, 42), die jeweils eine Source- (32, 46), eine Gate- (34, 48) und eine Drain- Elektrode (36, 44) aufweisen und von denen einer (42) in Flip-Chip-Bauweise angeordnet ist.
Die obenliegende Source-Elektrode (32) des ersten MOSFETs (30) ist mit der obenliegenden Drain-Elektrode (44) des Flip-Chip-MOSFETs (42) verbunden, und die untenliegenden Elektroden (36, 46, 48) sind über leitfähige Pads (38, 50, 52) auf einer Leiterplatte (40) angeordnet, vgl. die nachfolgend wiedergegebene Figur 3. Gemäß Fig. 5 kann die Verbindung zwischen Source- (32) und Drain-Elektrode (44) mittels eines elektrisch leitfähigen Elements (56) erfolgen, das die Elektroden (32, 44) über eine leitfähige Schicht (62) kontaktiert, wobei diese leitfähige Schicht (62) auch zwischen den untenliegenden Elektroden der MOSFETs und den zugehörigen Pads (38, 50, 52) auf der Leiterplatte (40) vorhanden ist. Zum Schutz und zur elektrischen Isolation ist die Vorrichtung in einer Harzguss-Formmasse (58) eingehaust (resin mold of molded housing 58 / vgl. Spalte 3, vorletzter Absatz und Spalte 5, erster Absatz).
Zusätzlich kann die Oberseite des elektrisch leitfähigen Elements (56), wie in Figur 9 gezeigt, zur besseren Wärmeabfuhr freigelegt sein. Folglich offenbart Druckschrift D4 mit den Worten des Patentanspruchs 1 eine M1.1 M1.2 Vorrichtung, umfassend:
einen ersten Leistungshalbleiterchip (Flip-chip MOSFET 42) mit einer ersten Fläche (der Leiterplatte 40 zugewandte Fläche) und einer zweiten Fläche (dem leitfähigen Element 56 zugewandte Fläche) gegenüberliegend zur ersten Fläche, M1.3 wobei eine erste Kontaktstelle (source electrode 46) und eine zweite Kontaktstelle (gate electrode 48) auf der ersten Fläche angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (drain electrode 44) auf der zweiten Fläche angeordnet ist; und M1.4 einen zweiten Leistungshalbleiterchip (conventional vertical conduction power MOSFET 30) mit einer ersten Fläche (dem leitfähigen Element 56 zugewandte Fläche) und einer zweiten Fläche (der Leiterplatte 40 zugewandte Fläche) gegenüberliegend zur ersten Fläche, M1.5 wobei eine erste Kontaktstelle (source contact 32) und eine zweite Kontaktstelle (gate contact 34) auf der ersten Fläche angeordnet sind und eine dritte Kontaktstelle (drain contact 36) auf der zweiten Fläche angeordnet ist; M1.6 wobei der erste und der zweite Leistungshalbleiterchip (42, 30) in einer gemeinsamen Laminierungsschicht (resin mold of molded housing 58) gekapselt und M1.7‘ derart angeordnet sind, dass die erste Fläche des ersten Leistungshalbleiterchips (42) in eine erste Richtung gewandt ist und die erste Fläche des zweiten Leistungshalbleiterchips (30) in eine zweite Richtung entgegengesetzt zur ersten Richtung gewandt ist, wobei die gemeinsame Laminierungsschicht (42) ein Prepreg enthält, und M1.8 wobei der erste Leistungshalbleiterchip (42) seitlich vollständig außerhalb eines Umrisses des zweiten Leistungshalbleiterchips (30) angeordnet ist, M1.9 wobei die Vorrichtung ferner eine erste Metallschicht (conductive element 56 mit web portion 60 und connector 64) umfasst, die an der zweiten Fläche des ersten Leistungshalbleiterchips (42) und an einer Oberfläche der gemeinsamen Laminierungsschicht (58) befestigt ist und M1.10 eine zweite Metallschicht (conductive pad 38) umfasst, die an der zweiten Fläche des zweiten Leistungshalbleiterchips (30) befestigt ist, M1.11 wobei die erste Metallschicht (56) und die zweite Metallschicht (38) auf gegenüberliegenden Flächen der gemeinsamen Laminierungsschicht (58) angeordnet sind.
Die Bezeichnung der Harzschicht (58) aus Druckschrift D4 als Laminierungsschicht ist gerechtfertigt, weil die Bezeichnung „Laminierungsschicht“ nur zum Ausdruck bringt, dass diese Schicht zum Lamininieren geeignet sein muss, was bei der in D4 offenbarten Harzschicht (58) der Fall ist, da durch das Aufbringen weiterer Schichten auf die Harzschicht (58) ein Laminat, also ein Stapel aus mehreren miteinander verbundenen Laminierungsschichten gebildet werden kann.
Im Gegensatz zu Merkmal 1.7 des Anspruchs 1 umfasst die in Druckschrift D4 offenbarte Vorrichtung jedoch keine gemeinsame Laminierungsschicht, die ein Prepreg, d. h. eine Fasermatte mit Harz, enthält, sondern lediglich ein Gehäuse, dass aus einer Harzguss-Formmasse besteht, d. h. aus einem Harz, dass in eine Form gegossen wurde und die Bauteile, wie in Fig. 5 der D4 gezeigt, umschließt. Ausgehend von Druckschrift D4 hat der Fachmann keinen Anlass, bei der in D4 offenbarten Vorrichtung das Gehäuse mit einer ein Prepreg enthaltenden Laminierungsschicht statt mit einer Harzguss-Formmasse auszubilden. Denn der Einsatz eines Prepregs als Bestandteil des Gehäuses würde ein komplett anderes Verfahren als das übliche und in D4 offenbarte Harzvergießen erfordern, was für den Fachmann nicht naheliegt und wofür es in D4 auch keinen Hinweis gibt. Zwar ist dem Fachmann das Laminieren von Isolationsfolien zur Bereitstellung von Isolationsschichten bspw. aus Druckschrift D1 bekannt, vgl. deren Absätze [0020] und [0035], wobei er Prepregs enthaltende Laminierungsschichten auch als Isolationsschichten in Leiterplatten kennt, doch setzt er diese Prepregs enthaltenden Laminierungsschichten aus obigen Gründen nicht in naheliegender Weise als Gehäusematerial bei der in Druckschrift D4 offenbarten Vorrichtung ein, so dass die Vorrichtung des Anspruchs 1 hinsichtlich Druckschrift D4 neu ist und auf einer erfinderischen Tätigkeit beruht.
Für das Verfahren des Patentanspruchs 10 gilt dies in gleicher Weise. Denn auch wenn einzelne Merkmale des beanspruchten Verfahrens aus den Druckschriften D1 bis D6 bekannt sind, gibt es in ihnen keinen Hinweis, einen ersten Leistungshalbleiterchip mit einer ersten Laminierungsfolie und einen zweiten Leistungshalbleiterchip mit einer zweiten Laminierungsfolie gemäß den Merkmalen M10.1 bis M10.11 bereitzustellen und dann die erste Laminierungsfolie entsprechend Merkmal M10.12 an die zweite Laminierungsfolie zu laminieren, um eine gemeinsame Laminierungsschicht zu erzeugen.
So offenbaren die Druckschriften D4 und D6 lediglich eine Harzschicht (58 in D4 und 7 in D6) als Vergussmasse, ohne aber dem Fachmann eine Anregung geben zu können, diese Harzschicht aus zwei Laminierungsfolien zu bilden oder bei dem Gehäuse der in D4 offenbarten Vorrichtung eine ein Prepreg enthaltende Laminierungsschicht einzusetzen.
Auch Druckschrift D1 führt in den bereits angegebenen Absätzen [0020] und [0035] nur aus, dass eine Isolierschicht durch Laminieren als Folie aufgebracht werden kann, doch hat der Fachmann auch in Kenntnis der D1 keine Veranlassung, gemäß den Merkmalen M10.1 bis M10.11 einen ersten Leistungshalbleiterchip mit einer ersten Laminierungsfolie und einen zweiten Leistungshalbleiterchip mit einer zweiten Laminierungsfolie bereitzustellen und dann die erste Laminierungsfolie entsprechend Merkmal M10.12 an die zweite Laminierungsfolie zu laminieren, um eine gemeinsame Laminierungsschicht zu erzeugen.
Die Druckschriften D2, D3 und D5 offenbaren ebenfalls lediglich Gehäuse (89 in D2, 28 in D3, 16 in D5), die nicht durch das Laminieren zweier Laminierungsfolien hergestellt wurden, und sie können dem Fachmann auch nicht das Merkmal M1.7 des Patentanspruchs 1 nahelegen.
6. Den nebengeordneten Ansprüchen 1 und 10 können sich die Unteransprüche 2 bis 9 und 11 bis 14 anschließen, da sie die Vorrichtung des Patentanspruchs 1 bzw. das Verfahren des Patentanspruchs 10 vorteilhaft weiterbilden. Zudem sind in der geltenden Beschreibung mit Zeichnung die Gegenstände der Ansprüche ausreichend erläutert.
7. Bei dieser Sachlage war der angefochtene Beschluss aufzuheben und das Patent im beantragten Umfang zu erteilen.
Rechtsmittelbelehrung
Gegen diesen Beschluss steht den am Beschwerdeverfahren Beteiligten das Rechtsmittel der Rechtsbeschwerde zu. Da der Senat die Rechtsbeschwerde nicht zugelassen hat, ist sie nur statthaft, wenn gerügt wird, dass 1. das beschließende Gericht nicht vorschriftsmäßig besetzt war, 2. bei dem Beschluss ein Richter mitgewirkt hat, der von der Ausübung des Richteramtes kraft Gesetzes ausgeschlossen oder wegen Besorgnis der Befangenheit mit Erfolg abgelehnt war, 3. einem Beteiligten das rechtliche Gehör versagt war, 4. ein Beteiligter im Verfahren nicht nach Vorschrift des Gesetzes vertreten war, sofern er nicht der Führung des Verfahrens ausdrücklich oder stillschweigend zugestimmt hat, 5. der Beschluss aufgrund einer mündlichen Verhandlung ergangen ist, bei der die Vorschriften über die Öffentlichkeit des Verfahrens verletzt worden sind, oder 6. der Beschluss nicht mit Gründen versehen ist.
Die Rechtsbeschwerde ist innerhalb eines Monats nach Zustellung des Beschlusses beim Bundesgerichtshof, Herrenstr. 45 a, 76133 Karlsruhe, durch einen beim Bundesgerichtshof zugelassenen Rechtsanwalt als Bevollmächtigten einzulegen. Dr. Morawek Dr. Friedrich Dr. Zebisch Dr. Nielsen Verkündet am 29. April 2025